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* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-12-05 5:49:23 * 浏览: 6
高青岛真空镀膜机的基本技术要求1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。高青岛真空镀膜机的基本技术要求1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。高青岛真空镀膜机的基本技术要求1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。

青岛纳米喷涂可拆卸屏蔽环能够防止非靶材构件的溅射,并且可以拆卸下来清除沉积其上的膜层其余构件的作用与其它磁控靶的构件相同。。

青岛五金电镀费用用离子镀在反应堆燃料元件表面镀上防腐蚀的铝膜等    在超导领域,有快速蒸发、低温凝聚的InSb非晶超导膜,高纯度Nb超导溅射膜以及Nb-Ge系、Nb-(Cu)系、V-Hf-Zr系超导膜等。  在声学应用方面,ZnO薄膜是一种优良的压电薄膜材料,它具有机电耦合系数大,温度性能好,容易在各种非压电基片上形成择优取向等优点。  除了上述应用之外,青岛真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。。

PVD青岛真空电镀工厂有时卷绕镀膜机以增扩泵(油扩散泵的一种)为主泵,它的极限压力虽然不及油扩散泵,但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级,非常适宜此类蒸发的镀膜过程    目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kWmdash,8kW,加热电压为10Vmdash,12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的z*外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。。

青岛纳米喷涂价格综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向,束缚和延长电子的运动路径,提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量因此,在形成高密度等离子体的异常辉光放电中,正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有ldquo,低温、ldquo,高速两大特点的机理。。

青岛真空电镀设备装置采用射频感应加热,反应在基片与感应体附近发生,管壁沉积很少,硅膜生长速率为1mu,m/minmdash,3mu,m/min。

当用惰性气体氩离子及氖离子轰击靶材时,由于能量不同,溅射产额亦不同    表10-8给出了500eV的离子溅射产额。    各种溅射方法镀膜原理及特点由表10-9给出。。

蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

一起来看看吧!高青岛真空镀膜机的结构一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异,真空腔的大小也不一样,目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔体由不锈钢材料制作,要求不生锈、坚实等,真空腔各部分有连接阀,用来连接各抽气泵浦二、辅助抽气系统此排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成?排气流程为:机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态,为扩散泵后继抽真空提供前提,之后当扩散泵抽真空腔的时候,机械泵又配合油扩散泵组成串联,以这样的方式完成抽气动作。排气系统为镀膜机真空系统的重要部分,主要有由机械泵、增压泵(主要介绍罗茨泵)、油扩散泵三大部分组成。1、机械泵:也叫前级泵,机械泵是应用最广泛的一种低真空泵,它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积,使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。2、增压泵增压泵又叫罗茨泵,它是具有一对同步高速旋转的双叶形或多叶形转子的机械泵,由于它的工作原理与罗茨鼓风机相同,所以又可以叫罗茨真空泵,此泵在100-1帕压强范围内有较大的抽气速度,它弥补了机械泵在此范围内排气能力不足的缺点,此泵不能从大气开始工作,也不能直接排出大气,它的作用仅仅是增加进气口和排气口之间的压差,其余的则需要机械泵来完成,因此,它必须配以机械泵作为前级泵。3、油扩散泵:机械泵的极限真空只有10-2帕,当达到10-1帕的时候,实际抽速只有理论的1/10,如果要获得高真空的话,必须采用油扩散泵。高青岛真空镀膜机的基本技术要求1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。2、在低真空和高真空管道上及青岛真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱。4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。

此装置原理图如图10-30所示采用高频加热,温度可达1300℃mdash,1800℃,膜生长速率为0.2mu,m/min~1.0mu,m/min。。

三者有机地结合在一起,可以镀金属膜、化合物膜及合金膜由于镀膜时真空度较高,使镀层针孔少、膜质均匀致密、纯度高,对制作超导膜及光学膜特别有利。    射频放电离子镀优点:①蒸发、离化、加速三种过程分别独立控制,离化靠射频激励,而不是靠加速直流电场,基板周围不产生阴极暗区。②工作压力低,成膜质量好。③基板温度较低,较容易控制。其不足是:由于真空度高,绕射性较差;要求频率源与电极之间需有匹配箱,并随镀膜参数变化而调节;蒸发源与频率源之间易产生干扰;射频对人体有害,需加防护。。